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日, 반도체 소재만큼은 한국 앞서간다!
한국도 소재에 진출, 80% 점유 일본 위기감 속 경쟁력강화
 
김현근 기자
90년대 이후 반도체 산업에서 한국의 공세에 밀려난 일본.
 
그러나 소재 분야에서는 일본이 여전히 높은 점유율을 유지하고 있어, 선행주자로서 우위를 지키기 위해 일본 회사가 차세대 반도체 소재 개발을 서두르고 있다.  
 
<니혼게이자이신문>(12월 11일자)은 "일본의 화학메이커가 반도체 제조에 불가결한 '포토레지스트'의 차세대 제품을 연달아 상품화하고 있다"고 보도했다.
 
포토레지스트란 얇은 막으로 만들어 빛을 쐬면 내약품성이 큰 경질막으로 변화하는 감광성 재료로, 고밀도 집적회로의 제조에 쓰인다. 현재 세계시장규모는 약 1000억엔으로 일본이 80%의 점유율을 자랑한다.   

▲ 이미지
이 분야 세계 점유율 1위인 jsr은 선폭 20나노미터(나노는 10억분의 1)미터 대의 초미세가공 대응 제품을 개발했으며 2위인 도쿄오카공업과 3위인 신에쓰화학공업도 역시 20나노미터 대 가공에 대응한 제품의 샘플을 2010년 출하한다.

 
신문은 일본기업이 반도체에서는 해외기업에 밀려있지만, 소재분야에서는 높은 점유율을 유지하고 있어, 고 정밀도의 제품을 조기에 투입해, 경쟁력을 더욱 향상시킬 예정이라고 전했다.
 
반도체는 회로선폭이 작아지면 메모리 용량 등 같은 면적의 집적도가 향상된다. 같은 성능의 ic 칩이라면 소형이 되고, 웨이퍼 하나를 재단해서 만드는 양이 늘어난다.
 
또 45나노에서 32나노로 세대교체가 되면 ic 하나의 생산비용도 30% 줄어든다고 한다.
 
현재 업체가 생산하고 있는 것은 32 나노미터 제품으로 20 나노 대의 초미세제품은 2010년부터 개발을 본격화해, 12-13년경에는 양산에 들어갈 전망이다. 20 나노의 초미세제품이 나오면 휴대기기가 보다 고성능화되거나 컴퓨터 대용량 메모리를 보다 싸게 할 것으로 보인다.
 
신문은 반도체 산업에서 1990년대 이후로 미국이나 한국・대만 기업의 공세가  눈에 띄면서 투자 규모・타이밍에서 뒤쳐졌던 일본 반도체 메이커의 존재감이 저하됐지만, 포토레지스트나 기판이 되는 실리콘 웨이퍼 등의 소재, 노광(露光) 등의 제조장비에서는 일본기업이 여전히 높은 점유율을 유지하고 있다고 전했다.
 
이런 분야는 높은 기술과 숙련도가 보다 중요해서 선발주자로서 우위를 유지하기 쉬웠기 때문이라고 신문은 분석했다.
 
그러나 한국의 현지 메이커가 신규로 이 분야에 진출해 구 세대제품으로부터 점저 침투를 해오고 있어, "앞으로 경합이 치열해질 가능성도 나오고 있다"(노무라 증권 애널리스트)라며 신문은 위기감을 드러냈다.
 
신문은 제품 경쟁력을 갖기 위해서는 차세대 제품으로 먼저 이동하는 것이 한층 중요하다고 지적했다.
 
반도체 재료는 작년가을 이후 수요가 급감해 재고조정에 들어갔으나 dram 등에서 가격이 상승해 수요가 회복중이다.
 
한국・대만 메이커 등이 차세대 반도체에 적극적인 투자를 하고 있어, 관련제품의 수요가 다시 늘어날 가능성도 있다며 회로선폭 20 나노미터 대의 수요를 둘러싸고 일본메이커끼리 경쟁이 격화될 전망이라고 신문은 밝혔다.

 

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기사입력: 2009/12/11 [10:03]  최종편집: ⓒ jpnews_co_kr
 
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